PARK WAFER SERIES NX-WAFER | XE-WAFER
Perfilador de fuerza atómica de bajo ruido para mediciones de perfil CMP precisas y de alto rendimiento
El Park AFM de bajo ruido líder en la industria se combina con una etapa deslizante de largo alcance para convertirse en un perfilador de fuerza atómica (AFP) para la metrología de pulido mecánico químico (CMP). El nuevo AFP de bajo ruido proporciona un perfil muy plano para mediciones de uniformidad locales y globales con la mejor precisión y repetibilidad de perfil en el mercado. El exclusivo modo True Non-Contact TM permite mediciones en línea no destructivas con una vida útil de la punta mucho más larga, mientras que la innovadora True Sample Topography TM de Park obtiene perfiles CMP sin los artefactos habituales asociados con un AFP tradicional basado en piezotubos. Esto garantiza mediciones de altura precisas sin sustracción de fondo no lineal o de alto ruido en una amplia gama de longitudes de perfilado.
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